主要采用RO工藝，對原水進行深度凈化，電導率通常在10uS/cm以下。國家對食品飲料行業實施QS認證，所用工藝水及成品水均需要用凈化水（純水）。
主要采用RO+EDI工藝，配置殺菌消毒系統，在設計、制造、調試過程中遵循模塊化設計，嚴格把控每個功能單元產水水質，出水滿足客戶的生產用水要求，達到超過相關行業、藥典水質標
超純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。半導體、集成電路芯片、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、電子器件、微電子、集成電路需用
電力行業對水質純度要求非常高，需要采用超純水設備生產出化學純度極高的水，才能滿足電力行業的用水需求。設備采用預處理、雙級RO反滲透、EDI系統等構成，可連續制水，回收利用
水是生產中不可或缺的重要原料，制造用水的質量標準嚴重影響著化妝品產品的安全與否、更關系到使用者們的健康、可靠度和穩定性。采用RO反滲透與前置預處理配套使用，有效去除水
設備采用預處理+單級反滲透工藝，含恒壓供水系統、源水箱與無菌純水箱。整體采用一體化設計，含柜式箱，無需另行組裝，便于搬運，安裝簡單。
設備采用預處理+單級反滲透工藝，含柜式箱，無需另行組裝，便于設備安裝、運輸。一般適用于用水需求量較小工廠及直飲水。
設備采用預處理+單級反滲透工藝，含恒壓供水系統、源水箱與無菌純水箱。整體采用一體化設計，便于搬運，安裝簡單。
在單級反滲透后，再次使用反滲透法。經過雙級RO處理的水比單級RO出來的水更“純”，滿足不同行業更高的用水需求。
原水經過二次反滲透與EDI連續電去離子技術。EDI把離子交換膜技術和電滲析技術結合一起，進行深度脫鹽，電滲析技術而把水電離成氫離子和氫氧根離子，克服樹脂再生失效。出水在線
為獲得電子光學行業用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2MΩ?CM)的超純水，在EDI超純水設備后，裝設拋光混床進行最終的精處理，用來進一步提高產水水質。一般出水水質都能達到18MΩ?CM以上（
主要應用于電池行溶劑用純水、化學分析、化工材料、產品清洗、分離、濃縮、提純等場合的用水，純水電導率0.1uS/cm-20uS/cm。設備一般采用RO+EDI工藝，既經濟實用，又能滿足客戶要求。
主要采用預處理過濾系統與單級反滲透主機，去除水中的細菌、病毒、重金屬、溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等。除鹽濾≥99%以上，出水電導率≤10us/cm。
隨著保健品行業的快速發展，保健品行業生產用水的要求也越來越嚴格。主要采用反滲透和EDI技術，對水中的有機物，膠體、微粒、細菌、病毒、熱源等有很高的截留去除作用。
電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗。
設備采用預處理+單級（雙級）RO或含EDI工藝，設備部件裸露在外，便于設備檢修、濾料更換、排查故障。一般偏大型、大型設備均采用框架式。適用于用水需求量大的工廠及直飲水。
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